本文標(biāo)題："按裝置的原理，干涉顯微鏡可劃分為兩大類"

按裝置的原理，干涉顯微鏡可劃分為兩大類

對(duì)干涉儀結(jié)構(gòu)的基本要求

在設(shè)計(jì)干涉儀時(shí)，正確地確定對(duì)結(jié)構(gòu)的要求，是很重要

的，即是說(shuō)，要正確規(guī)定光學(xué)零件的公差，確定部件位移范

圍及靈敏度、規(guī)定好干涉儀的抗振穩(wěn)定性與抗溫度變化的穩(wěn)

定性．干涉圖樣的質(zhì)量，其穩(wěn)定性以及測(cè)量的準(zhǔn)確度等均取

決于這些要求的完成情況．我們來(lái)簡(jiǎn)要探討一下各種干涉儀

的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)．

按裝置的原理，干涉儀可劃分為兩大類．第一類是按波

前鑒別光波的干涉儀，例如瑞利干涉儀．這類儀器操作簡(jiǎn)

易，對(duì)振動(dòng)不甚敏感并且對(duì)結(jié)構(gòu)剛性無(wú)特殊要求．屬于第二

類的是按波幅鑒別光波的干涉儀，例如邁克爾遜干涉儀．這

類儀器的結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，但可用較多種光源進(jìn)行工作，可給

出較亮的圖樣．

按用途而言，干涉儀也可以劃分為兩類，以A和B表示

之．屬于A類的是測(cè)量干涉條紋偏移用的儀器．根據(jù)干涉條

紋的偏移量來(lái)確定長(zhǎng)度量與角度量，確定介質(zhì)的折射率及

其它等等．屬于B類的是測(cè)量干涉條紋形狀用的儀器．根據(jù)

干涉條紋的彎曲來(lái)確定表面形狀(宏觀輪廓)或加工光潔度

(微觀輪廓)、研究氣流、測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)的波象差及其它等

等．

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按裝置的原理，干涉顯微鏡可劃分為兩大類,熒光顯微鏡現(xiàn)貨供應(yīng)